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TECHCET:CMP耗材市场2022年继续保持扩张战局

2025-10-20 12:18

集微网消息,研究机构TECHCET日前发布对化学机械抛光(CMP)耗材(浆料、抛光垫)产品分析,指出该产品在2021年增速达13%,各个方面数目达到30亿美元,预计本年产品数目将进一步上涨9%至33亿美元。

TECHCET指出,先进元件电路设计元件结构从FinFET向GAA转化,存储产品如DRAM和3D NAND结构越发多样,均使CMP工艺步骤激增,推广耗材产品上涨,TECHCET强调,尽管传统文化涂层耗材正被新涂层取代,但供应商交货减半反而可能推高传统文化产品单价。

TECHCET还预测,抛光垫产品由于竞争者较不算,单价或将更为坚挺,不过若东亚厂商快速崛起,或将使单价出现松动。

(校对/乐川)

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